Наименование: Установка вакуумного напыления тонких пленок

Услуга:

ОКПД2: 25.61.22.130

Мощность в сутки: 10.0

Описание: Осаждение тонких пленок методом лазерного и магнетронного напыления. Основные технические характеристики: - Толщина осаждаемых слоев - от 2 до 1000 нм; - Материал активного тела лазера - Nd:YAG; - Рабочие длины волн лазера - 532 и 1064 нм; - Длительность импульсов -10 -12 нс. Установка предназначена для осаждения тонких пленок методом лазерного и магнетронного напыления. Воздействие интенсивного импульсного лазерного излучения на твердотельные материалы вызывает формирование плазменно-парового потока вещества мишени-эрозионного факела. Осаждение такого потока на поверхность подложки позволяет наносить различные по химическому составу наноразмерные и тонкопленочные функциональные слои и многослойные структуры на основе металлов, полупроводников и диэлектриков. Имеется возможность получения сплавных тонкопленочных слоев заданного стехиометрического состава, а также нагрева подложек до температуры 700°С. Установка позволяет решить следующие задачи: • Создание наноструктурированных и нано- композитных покрытий трибологического назначения; • Создание каталитических тонкопленочных материалов на основе халькогенидов переходных металлов; • Создание сенсорных структур; • Создание тонкопленочных материалов, необходимых для ряда приложений в нано- электронике, оптике и др.

Предприятие: «ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ»

Контакты: +7 916 709-21-07